目錄日本信越半導體 日本信越化學的產品目錄 信越化學有多厲害 日本信越 信越化學工業株式會社
品牌名為信越化學。
ip3500光刻膠是日本信越化學的產品。信越化學產是日本最大的化工企業，成立于1926年，主要裂轎從事化工業務，生產和銷售尺毀合成樹脂和其他化學品。
日本光刻膠三巨頭分別是日本合成橡膠（JSR）、東京肆困肆應化（TOK）和信越化學。
近日，半導體領域迎來重磅消息，南大光電的ArF光刻膠取得突破，國產光刻膠終于來了！
南大光電光刻膠突破
早在5月30日，南大光電就已經發銀漏布公告稱，公司自主研發的ArF光刻膠產品通過客戶認證，具備55nm工藝要求。
7月2日，有報道稱，南大光電的ArF光刻膠產品目前已經拿到了小批量訂單。
這都在表明，國產光刻膠終于不再受制于人，而是實現國產化了。
芯片在制造過程中，除了硅這種主要材料之外，一些輔助材料也至關重要，其中有一種名為光刻膠的材料，在芯片制造過程中必不可少，然而，這個材料卻長期被日本壟斷，中國也在這方面一直被卡脖子。
而最近傳出的一個消息，對我國半導體的發展非常不利，日本對中國供應的光刻膠出現了“斷供”的現象。美國召開G7峰會后，日本宣布光刻膠斷供中國，日本信越化學等光刻膠企業開始限制供應ArF光刻膠產品。
斷供光刻膠，對半導體行業的人而言并不陌生，2019年日韓貿易沖突白熱化，日本就斷供了光刻膠，導致當時全球最大的芯片廠商三星陷入了困境之中。
雖然韓國積極向日本低頭求和并開展自救，但芯片生產依然受到巨大影響，間接推動了2020年的芯片短缺。
巧婦難為無米之炊，沒有了光刻膠，對于中國的晶圓廠而言是巨大的打擊，芯片生產將被迫停止！
好在，光刻膠的國產化進程并不慢，日企斷供短短半年時間，南大光電就已經將國產光刻膠投入市場中了。
南大光電，成立于2000年12月，是以南京大學國家863計劃研究成果作為技術支持的中國高純金屬有機化合物MO源的產業化基地。
1986年，863計劃啟動，在高濟宇院士的支持和指導下，學者孫祥禎牽頭進行MO源的技術攻關。MO源是一種禁運物資，更是生產化合物半導體的源頭材料，對我國國防安全、高 科技 民族工業有重要意義。
歷經重重困難，孫祥禎帶領的課題組終于研制出了純度大于5.5N的多個品種的MO源，全面向國內近20家研究單位供貨，緩解了我國對MO源的急求。
這項工藝不僅促進了國防工業的發展，更為國內化合物半導體材料的發展奠定了原始的基礎。
孫祥禎退休后，帶領年輕人創立了南大光電，注冊資本3770萬元，生產擁有自主知識產權的高純金屬有機化合物，是國內唯一實現MO源產業化的企業，公司的技術主要來源便是南京大學863計劃中的項目。
公司主要產品有三甲基鎵，三甲基銦，三甲基鋁，二茂鎂等十幾種MO源，在產品的合成、純化、分析、封裝、儲運及安全操作等方面已達到國際先進水平，產品遠銷日本、韓國、歐洲市場，并占有大陸70%的市場份額。
作為國內唯一將半導體光學原材料實現量產的企業，南大光電對于光刻膠可以說十分熟悉，也是最有可能突破光刻膠技術的企業。
中國半導體在崛起
光刻野殲膠到底是做什么用的呢？
芯片生產過程中，需要用光學材料將數以萬計的電路刻在小小的7nm的芯片上，而這種輔助的光學材料，就是光刻膠。
在光刻膠領域，材料主要分為四種，分別為g線、i線、KrF、ArF光刻膠，頌搏沖半導體工藝越高，光刻機的精度越高，照射的光線頻率越高，波長越短。
光刻膠的分辨率會隨著光線頻率的改變而不斷變化，基本的演進路線是：g線（436nm） i線（365nm） KrF（248nm） ArF（193nm） F2（157nm） EUV（
其中，ArF光刻膠的制造難度是最高的，這也是14nm/7nm芯片制造過程中不可或缺的原材料。
芯片的工藝也分等級，平板電腦、 汽車 芯片等工藝水平并不高，這各等級的芯片中國已經實現了從光刻機到芯片的完全自主化生產。真正困難的在于7nm的芯片，也就是華為遭到斷供的手機芯片。
這種工藝的手機芯片，不僅需要荷蘭ASML先進的EVU光刻機來生產，更需要高端的光刻膠作為輔助材料，以及大量的芯片原材料，才能成功生產出華為手機所需要的芯片。
光刻機被美國和荷蘭的公司壟斷，現在EVU光刻機對中國處于斷供狀態，中芯國際花了12億購買的EVU光刻機至今仍未到貨；
芯片原材料，雖然國內已有部分原材料實現自主生產，但是硅片、光掩模、電子特氣、拋光材料、濺射靶材、光刻膠以及濕電子化學品這其中原材料完全依賴進口。
在全球光刻膠市場，日本東京應化，JSR，住友化學，信越化學等企業，掌握了全球半導體光刻膠市場的90%左右份額，幾乎是壟斷的狀態。
方正證券的報告顯示，中國大陸企業在全球光刻膠領域占有率不到13%，在半導體光刻膠領域更是不足5%，完全被日本卡了脖子！
但是，進入2021年以后，中國半導體行業國產化的趨勢越來越強！
首先是光刻機領域，上海微電子已經實現28nm光刻機的量產，預計2022年可以交付，這款光刻機的性能與荷蘭ASML的DVU光刻機相似，可以生產14nm制程工藝的芯片。
另外，美國雖然斷供了最先進的EVU光刻機，但是制程工藝相對較低的DVU光刻機卻沒有斷供，而荷蘭ASML也明確表態過，EVU光刻機也可以用于7nm工藝芯片，英特爾的10nm工藝、臺積電第一個7nm芯片，都是用DVU光刻機實現。
這意味著，2022年，現有的光刻機技術或許能夠提前量產華為所需的7nm芯片，打破美國封鎖。
而生產7nm工藝芯片所需要的ArF光刻膠，在7月2日就已經有國外企業向南大光電訂購了，這意味著半導體光刻膠原材料也實現了自主化。
另外，南大光電，容大感光、上海新陽等國內企業，也在持續研發高端光刻膠，爭取在現有技術上進一步突破，追上日本的光刻膠技術。
剩下的6種完全依賴進口的原材料，國內的企業肯定也已經發現了商機，正在朝著國產化轉變；最關鍵的兩項技術突破后，中國實現手機芯片國產化的日子也就不遠了。
空談誤國、實干興邦，中國的半導體行業，正在默默地奮力追趕，一如這次南大光電突然給市場來個驚喜一樣，未來還將會看到更多的一鳴驚人的突破。
中國半導體，正在以驚人的速度崛起！
作者 | 金萊
國外相應
牌號 A-187（美國GE/OSi公司）、KBM-403（日本信越化學工業株式會社）、 Z-6040（美舉芹悶國Dow Corning道康寧公司）
化 學 名正彎γ-（2，3-環氧丙氧）丙基三甲氧基硅烷首渣
英 文 名γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane
CAS 編號 2530-83-8
分 子 式C9H20O5Si
南京優普
根據科技日報推出的文章報道中查看，制約中國工業發展的35項技術中心，與化學相關的有：
1、光刻膠，我國雖然已成為世界半導體生產大國，但面板產業整體產業鏈仍較為落后。目前，LCD用光刻膠缺臘幾乎全部依賴進口，核心技術至今被TOK、JSR、住友化學、信越化學等日本企業所壟斷。就拿在國際上具有一定競爭實力的京東方來說，目前已建立17個面板顯示生產基地，其中有16個已經投產。但京東方用于高端面板的光刻膠，仍然大扮殲由國外企業提供。光刻膠主要成分有高分子樹脂、色漿、單體、感光引發劑、溶劑以及添加劑，開發所涉及的技滾沖術難題眾多，需從低聚物結構設計和篩選、合成工藝的確定和優化、活性單體的篩選和控制、色漿細度控制和穩定、產品配方設計和優化、產品生產工藝優化和穩定、最終使用條件匹配和寬容度調整等方面進行調整。因此，要自主研發生產，技術難度非常之高。
2、燃料電池關鍵材料，國外的燃料電池車已實現量產，但我國車用燃料電池還處在技術驗證階段。我國車用燃料電池的現狀是——幾乎無部件生產商，無車用電堆生產公司，只有極少量商業運行燃料電池車。多項關鍵材料，決定著燃料電池的壽命和性能。這些材料我國并非完全沒有，有些實驗室成果甚至已達到國際水平。但是，沒有批量生產線，燃料電池產業鏈依然梗阻。關鍵材料長期依賴國外，一旦遭遇禁售，我國的燃料電池產業便沒有了基礎支撐。
高品質級別。日本信越硅膠具有優良的機械性能、耐熱性和耐老化性,屬于高硬度硅膠，屬于高品質滲散級別的透明硅膠。信祥耐越化學工業株式會社叢宴氏自1926年成立以來，一直貫徹“品質誠信、技術卓越”的品質理念，經半個多世紀的發展 , 其自行研制的聚氯乙烯、有機硅、纖維素衍生物等原材料已成功在美國、日本、荷蘭、韓國、新加坡、中國（含臺灣）等國家和地區建立了全球范圍的生產和銷售網絡。
