刻蝕玻璃的化學方程式，氫氟酸刻蝕玻璃的化學方程式

刻蝕玻璃的化學方程式？刻蝕玻璃的化學方程式如下：氫氟酸能夠與玻璃中二氧化硅反應生成四氟化硅和水，方程式：SiO2（玻璃）+ H2 +熱 SiH4（硅氫化物）+ H2O 補充：蝕刻玻璃是利用蝕刻劑（氫氟酸）來腐蝕刻制的玻璃，有文字或圖案、花紋的蝕刻玻璃作為裝飾品，美觀大方，是建筑裝飾常用的一種玻璃制品。那么，刻蝕玻璃的化學方程式？一起來了解一下吧。

刻蝕玻璃的原理

（1）SiO₂廣泛存在自然界中，其用途也非常廣泛，可用于制造光導纖維，也用于生產半導體材料硅，碳能與二氧化硅反應生成硅單質，化學反應方程式：SiO₂+2C═Si+2CO↑，二氧化硅能與氫氟酸反應生成四氟化硅氣體，用于刻畫玻璃，化學反應方程式：SiO₂+4HF=SiF₄↑+2H₂O，（1）光導纖維；SiO₂+2C═Si+2CO↑；SiO₂+4HF

（2）檢驗溶液中Fe³⁺存在通常用KSCN溶液，取少量溶液與試管中，滴加KSCN溶液，溶液呈血紅色，說明Fe³⁺存在；銅與氯化鐵反應生成氯化銅、氯化亞鐵，反應的離子方程式為：2Fe³⁺+Cu=Cu²⁺+2Fe²⁺

故答案為：KSCN溶液；溶液呈血紅色；2Fe³⁺+Cu=Cu²⁺+2Fe²⁺．

氫氟酸刻蝕玻璃的化學方程式

氫氟酸刻蝕玻璃化學方程式是氫氟酸和二氧化硅，玻璃的主要成分就是二氧化硅。

玻璃是用石英砂加純堿制備的。因為石英的熔點很高，要把石英熔化需要很高的溫度，而且粘度很大，因此在石英熔化時，加少量的純堿，純堿可以使石英中部分Si-O-Si鍵，變成Si-O-Na，打斷了二氧化硅聚合的長鏈，從而使熔點降低，鈉離子含量越高，斷裂的Si-O-Si鍵越多，玻璃的軟化點就更低。但玻璃的主要成分始終是二氧化硅，而不是硅酸鹽。

HF刻蝕玻璃

玻璃能被氫氟酸腐蝕，大家通常認知其反應過程是氫氟酸與二氧化硅或硅酸鹽反應生成氣態物質四氟化硅( SiF4 ) ，有關反應的化學方程式為: (1) SiO2+4HF=SiF4+2H2O(2) CasiO3+6HF=CaF2+SiF4+3H2O

有相關實驗研究氫氟酸腐蝕玻璃后，產生蝕刻后溶液的渾濁并出現絮狀沉淀和白霧的現象，其中絮狀沉淀是SiF4 水解產生的原硅酸( H4SiO4 ) ，而白霧為 HF 溶于水蒸氣而產生的酸霧。該實驗分析認為氫氟酸與玻璃反應的主要依據是：

無機物水解受影響的主要三個因素：

（1）離子( 原子) 半徑大小及所帶電荷數的多少；

（2）離子( 原子) 電子層結構；

（3）離子( 原子) 的空軌道；

對于 SiF4 來說， 雖然 Si- F 鍵能( 565kJ/mol) 比 C- F 鍵的鍵能( 485 kJ/ mol) 大， SiF4 在 1273K 時也不分解[ 1]，但 SiF4 卻易水解。原因是硅原子半徑較大，既有 3s 和 3p 軌道能形成共價鍵，又有 3d 空軌道可接受水分子中氯原子的孤對電子，形成配位鍵，從而削弱了硅與氟的作用力，使 Si-F 鍵發生斷裂。所以， SiF4 很容易水解而不能存在于水中。

刻蝕

刻蝕玻璃的化學方程式如下：

氫氟酸能夠與玻璃中二氧化硅反應生成四氟化硅和水，方程式：

SiO2（玻璃）+ H2 +熱 SiH4（硅氫化物）+ H2O

補充：

蝕刻玻璃是利用蝕刻劑（氫氟酸）來腐蝕刻制的玻璃，有文字或圖案、花紋的蝕刻玻璃作為裝飾品，美觀大方，是建筑裝飾常用的一種玻璃制品。

制作方法：

第一步：將待刻的玻璃；洗凈晾干平置，于其上涂布用汽油溶化的石蠟液作為保護層，于固化后的石蠟層上雕刻出所需要的文字或圖案。雕刻時，必須雕透石蠟層，使玻璃露出 。

第二步：將氫氟酸滴于露出玻璃的文字或圖案上。根據所需花紋的深淺，控制腐蝕時間經過一定時間之后，用溫水洗去石蠟和氫氟酸，即可制得具有美麗花紋的玻璃。

氫氟酸（Hydrofluoric Acid）是氟化氫氣體的水溶液，清澈，無色、發煙的腐蝕性液體，有劇烈刺激性氣味。氫氟酸是一種弱酸，具有極強的腐蝕性，能強烈地腐蝕金屬、玻璃和含硅的物體。如吸入蒸氣或接觸皮膚會造成難以治愈的灼傷。實驗室一般用螢石（主要成分為氟化鈣）和濃硫酸來制取，需要密封在塑料瓶中，并保存于陰涼處。

鐵與稀硝酸反應的離子方程式

A．稀硫酸和二氧化硅不反應，不能用于在玻璃上進行刻蝕，故A錯誤；

B．二氧化硅與氨水反應幾乎不反應，不能用于在玻璃上進行刻蝕，故B錯誤；

C．氫氟酸與二氧化硅易反應，反應的化學方程式為：SiO₂+4HF=SiF₄↑+2H₂O，生成四氟化硅氣體，能在玻璃上進行刻蝕，故C正確；

D．純堿與二氧化硅在高溫下反應，不能用于在玻璃上進行刻蝕，故D錯誤；

故選C．

以上就是刻蝕玻璃的化學方程式的全部內容，玻璃能被氫氟酸腐蝕，大家通常認知其反應過程是氫氟酸與二氧化硅或硅酸鹽反應生成氣態物質四氟化硅( SiF4 ) ，有關反應的化學方程式為: (1) SiO2+4HF=SiF4+2H2O (2) CasiO3+6HF=CaF2+SiF4+3H2O 有相關實驗研究氫氟酸腐蝕玻璃后，產生蝕刻后溶液的渾濁并出現絮狀沉淀和白霧的現象，內容來源于互聯網，信息真偽需自行辨別。如有侵權請聯系刪除。